组合物、相位差膜及相位差膜的制造方法
授权
摘要
本发明提供了一种组合物，其包含聚合性液晶化合物(A)、光聚合引发剂(B)及交联剂(C)，满足下述式(i)和(ii)。|λa1‑λb1|≤20nm(i)，λc1≤250nm(ii)(在上述式中，λa1表示作为上述聚合性液晶化合物(A)的200nm以上且500nm以下的吸收光谱中的最长波长的最大吸收波长，λb1表示作为上述光聚合引发剂(B)的200nm以上且500nm以下的吸收光谱中的最长波长的最大吸收波长，λc1表示上述交联剂(C)的200nm以上且500nm以下的吸收光谱中的至少一个最大吸收波长)。
基本信息
专利标题 ：
组合物、相位差膜及相位差膜的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111602077A
申请号 ：
CN201980008547.7
公开（公告）日 ：
2020-08-28
申请日 ：
2019-01-21
授权号 ：
CN111602077B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
中野航幸本壮悟伊藤学井伊泰规
申请人 ：
日本瑞翁株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
邵秋雨
优先权 ：
CN201980008547.7
主分类号 ：
G02B5/30
IPC分类号 ：
G02B5/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2020-09-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/30
申请日 : 20190121
申请日 : 20190121
2020-08-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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