相位差膜及相位差膜的制造方法

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摘要

本发明提供一种相位差膜，其由包含共聚物P的树脂C形成，上述共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，该相位差膜包含显现结构性双折射的柱状(Cylinder)的相分离结构，上述相分离结构包含以上述聚合单元A作为主要成分的相(A)和以上述聚合单元B作为主要成分的相(B)，该相位差膜满足下述条件(1)或(2)。条件(1)：D(A)＞D(B)、且f(B)＞0.5、且面内方向中提供最大的折射率的方向与上述相分离结构中的柱的取向方向平行。条件(2)：D(A)＞D(B)、且f(A)＞0.5、且面内方向中提供最大的折射率的方向与上述相分离结构中的柱的取向方向正交。在此f(A)、f(B)、D(A)及D(B)如说明书的定义所述。

基本信息

专利标题：

相位差膜及相位差膜的制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111868583A

申请号：

CN201980019761.2

公开（公告）日：

2020-10-30

申请日：

2019-03-18

授权号：

CN111868583B

授权日：

2022-05-31

发明人：

浅田毅摺出寺浩成藤井健作安祐辅西冈宽哉

申请人：

日本瑞翁株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

邵秋雨

优先权：

CN201980019761.2

主分类号：

G02B5/30

IPC分类号：

G02B5/30 B29C48/305 B29C55/04 C08F297/04 B29K25/00 B29L7/00 B29L11/00