重叠测量系统以及重叠测量装置
公开
摘要
本发明能够根据SN比低的图案图像测量出工艺间的重叠误差。因此，根据二次电子检测器(107)的检测信号形成二次电子像(200)，根据反射电子检测器(109)的检测信号形成反射电子像(210)，制作将反射电子像中的亮度信息沿线图案的长度方向相加而得的SUMLINE轮廓(701)，使用根据二次电子像检测出的上层图案的位置信息、和使用基于SUMLINE轮廓从反射电子像推定出的推定线图案(801)而检测出的下层图案的位置信息，计算出试样的重叠误差。
基本信息
专利标题 ：
重叠测量系统以及重叠测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114303039A
申请号 ：
CN201980099625.9
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2019-08-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
椙江政贵酒井计
申请人 ：
株式会社日立高新技术
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
许静
优先权 ：
CN201980099625.9
主分类号 ：
G01B15/00
IPC分类号 ：
G01B15/00 G01N23/203 G01N23/2206 G01N23/2251 H01J37/22 H01L21/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B15/00
以采用波或粒子辐射为特征的计量设备
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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