防反射构造体
公开
摘要
防反射构造体包括：主体，所述主体由含有黑色的色料的原料构成；以及防反射构造，所述防反射构造形成于所述主体的外表面，所述防反射构造包括：多个凹部，所述多个凹部相对于所述外表面凹陷而形成；以及基座部，所述基座部形成相邻的所述凹部的边界部并在所述外表面具有顶部，所述凹部的深度方向上的所述基座部的截面曲线包含形成为曲线状的所述顶部，包含所述曲线状的所述顶部的一部分作为圆弧的假想圆具有50μm以下的直径φ。
基本信息
专利标题 ：
防反射构造体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556161A
申请号 ：
CN201980101384.7
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2019-11-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
佐藤英秋上门洋祐冈田泰幸花冈真悟高桥幸男森本俊辅
申请人 ：
大冢科技株式会社
申请人地址 ：
日本德岛县
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
黄盼
优先权 ：
CN201980101384.7
主分类号 ：
G02B1/11
IPC分类号 ：
G02B1/11 G02B1/118
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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