用于脱离印模的方法和装置
公开
摘要
本发明涉及一种用于使印模(17)与基底(12)、尤其与主印模(12)、与压印料(11)和/或与产品脱离的方法，其中，使印模(17)沿基底(12)的方向变形，以便使印模(17)与基底(12)脱离。
基本信息
专利标题 ：
用于脱离印模的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556211A
申请号 ：
CN201980101542.9
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2019-12-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
R·布雷耶
申请人 ：
EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请人地址 ：
奥地利圣弗洛里安
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
郭帆扬
优先权 ：
CN201980101542.9
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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