一种碳和碳化硅陶瓷溅射靶材及其制备方法
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摘要
本发明涉及一种碳和碳化硅陶瓷溅射靶材及其制备方法。所述制备方法包括：(1)将碳粉、碳化硅粉和粘结剂按照比例混合，并进行筛分处理；(2)将步骤(1)筛分后的混合粉末装入模具并用工具夯实；(3)对步骤(2)夯实后的模具在1850‑2200℃进行热压烧结处理，得到碳和碳化硅陶瓷溅射靶坯；(4)将步骤(3)得到的碳和碳化硅陶瓷溅射靶坯进行机加工，得到碳和碳化硅陶瓷溅射靶材。所述制备方法不仅工艺流程简单、生产周期短，还可使制备得到的碳和碳化硅陶瓷溅射靶材的致密度≥98％、纯度≥3N、吸水率＜0.1％、电阻率＜0.15Ω·m，满足了碳和碳化硅陶瓷溅射靶材对致密度和成型性的要求，为后续溅射使用提供更优良的性能保障。
基本信息
专利标题 ：
一种碳和碳化硅陶瓷溅射靶材及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111233480A
申请号 ：
CN202010047056.8
公开（公告）日 ：
2020-06-05
申请日 ：
2020-01-16
授权号 ：
CN111233480B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
姚力军潘杰边逸军王学泽马国成
申请人 ：
宁波江丰电子材料股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
王岩
优先权 ：
CN202010047056.8
主分类号 ：
C04B35/565
IPC分类号 ：
C04B35/565 C04B35/52 C04B35/645 C23C14/34 C23C14/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C04
水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料
C04B
石灰；氧化镁；矿渣；水泥；其组合物，例如：砂浆、混凝土或类似的建筑材料；人造石；陶瓷；耐火材料；天然石的处理
C04B35/00
以成分为特征的陶瓷成型制品；陶瓷组合物；准备制造陶瓷制品的无机化合物的加工粉末
C04B35/515
以非氧化物为基料的
C04B35/56
以碳化物为基料的
C04B35/565
以碳化硅为基料的
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2020-06-30 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C04B 35/565
申请日 : 20200116
申请日 : 20200116
2020-06-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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