连续激光加载下液晶波片相位特性的测量装置和方法
授权
摘要
一种连续激光加载下液晶波片相位调制特性变化的测量装置及测量方法，装置由探测激光器、第一反射镜、平面玻璃分光板、连续激光器、第二反射镜、待测液晶波片、等腰三角楔形板、光束质量分析仪和计算机组成。该方法利用平面玻璃分光板将探测光束分为两束，利用一块等腰三角楔形板使得所述的两束光束偏折，实现两束光的空间干涉。本发明光路简单，对环境不敏感，可以提高相位测试精度，可以准确评估不同激光参数作用对液晶波片相位调制特性的影响。
基本信息
专利标题 ：
连续激光加载下液晶波片相位特性的测量装置和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111289225A
申请号 ：
CN202010119030.X
公开（公告）日 ：
2020-06-16
申请日 ：
2020-02-26
授权号 ：
CN111289225B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
刘晓凤汪小双李大伟赵元安胡国行朱美萍邵建达
申请人 ：
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 ：
上海市嘉定区清河路390号
代理机构 ：
上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张宁展
优先权 ：
CN202010119030.X
主分类号 ：
G01M11/02
IPC分类号 ：
G01M11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M11/02
•光学性质测试
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2020-07-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01M 11/02
申请日 : 20200226
申请日 : 20200226
2020-06-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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