阵列基板及其制备方法、液晶面板和显示装置
授权
摘要

本申请提供一种阵列基板及其制备方法、液晶面板和显示装置,该阵列基板包括:第一基板、栅极线和数据线、TFT阵列层、色阻层和第一透明导电层;TFT阵列层包括源漏电极、半导体层和栅极,栅极包括第一栅极部分和第二栅极部分,第一栅极部分与栅极线同层且与栅极线相连接,第二栅极部分与数据线同向且与第一栅极部分断开;半导体层位于源漏电极与栅极之间,源漏电极位于半导体层下方;色阻层位于半导体层之上,色阻层上设置有挖空区,用于设置第一栅极部分,第二栅极部分位于色阻层上与数据线对应位置;色阻层上设置有过孔,第一透明导电层通过过孔与源漏电极接触。上述技术方案能够在不损失穿透率的情况下,改善拼接姆拉问题,提高面板性能。

基本信息
专利标题 :
阵列基板及其制备方法、液晶面板和显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113707668A
申请号 :
CN202010422266.0
公开(公告)日 :
2021-11-26
申请日 :
2020-05-19
授权号 :
CN113707668B
授权日 :
2022-06-14
发明人 :
李星
申请人 :
荣耀终端有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市福田区香蜜湖街道东海社区红荔西路8089号深业中城6号楼A单元3401
代理机构 :
北京龙双利达知识产权代理有限公司
代理人 :
张卿
优先权 :
CN202010422266.0
主分类号 :
H01L27/12
IPC分类号 :
H01L27/12  H01L21/77  G02F1/1362  G02F1/1368  
法律状态
2022-06-14 :
授权
2021-12-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/12
申请日 : 20200519
2021-11-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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