光敏传感器及其制备方法、电子设备
授权
摘要
一种光敏传感器，包括：基底，基底具有传感区域，传感区域内设置有规则排布的多个传感单元，传感单元远离基底的一侧设置有屏蔽层，屏蔽层覆盖传感区域，屏蔽层的材料为透明导电材料，屏蔽层连接恒压信号端。本公开还提供光敏传感器的制备方法及电子设备。
基本信息
专利标题 ：
光敏传感器及其制备方法、电子设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111564506A
申请号 ：
CN202010431731.7
公开（公告）日 ：
2020-08-21
申请日 ：
2020-05-20
授权号 ：
CN111564506B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
李士佩张立震徐胜何伟吴慧利赵雪飞贺芳周毅赵影黎午升姚琪
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 ：
蒋冬梅
优先权 ：
CN202010431731.7
主分类号 ：
H01L31/0216
IPC分类号 ：
H01L31/0216 H01L23/552 H01L27/144 H01L21/82 H01L27/32
法律状态
2022-04-15 ：
授权
2020-09-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 31/0216
申请日 : 20200520
申请日 : 20200520
2020-08-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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