一种制备强韧化非晶碳基多相杂化薄膜的装置及方法
授权
摘要
本发明公开了一种制备强韧化非晶碳基多相杂化薄膜的装置及方法。该装置为射频磁控溅射辅助直流和脉冲阴极电弧多激发源等离子体镀膜装置，制备方法包括：将预处理后的基体烘干，放置于多激发源等离子体镀膜装置的旋转样品台上；抽真空，通入氩气到真空室，采用离子源对基体表面进行溅射清洗；分别以高纯金属铝、钛和石墨片作为磁控溅射靶材、直流和脉冲阴极电弧的蒸发靶材，通入氩气和氮气，根据纳米晶和非晶相形成规律设计多相杂化薄膜结构，调节样品台转速，采用多激发源等离子体技术引入功能掺杂元素和梯度中间层制备非晶碳基多相杂化薄膜。本发明制备的非晶碳基多相杂化薄膜结构可调、相组成分布可控，具有高硬度、高粘附强度和强韧性。
基本信息
专利标题 ：
一种制备强韧化非晶碳基多相杂化薄膜的装置及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111850484A
申请号 ：
CN202010723691.3
公开（公告）日 ：
2020-10-30
申请日 ：
2020-07-24
授权号 ：
CN111850484B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
周兵刘竹波吴玉程黑鸿君高洁吴艳霞王永胜于盛旺
申请人 ：
太原理工大学
申请人地址 ：
山西省太原市万柏林区迎泽西大街79号
代理机构 ：
太原市科瑞达专利代理有限公司
代理人 ：
申艳玲
优先权 ：
CN202010723691.3
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32 C23C14/16 C23C14/02 C23C14/35 C23C14/50 C23C14/06 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2020-11-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/32
申请日 : 20200724
申请日 : 20200724
2020-10-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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