一种高阶匀场线圈设计方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种高阶匀场线圈设计方法,适用于三阶或三阶以上匀场线圈。本发明采用多层线圈骨架绕线,每层骨架间隔一定的距离,每层上的导线串联,并且匀场线圈与其他线圈的互感足够小。该方法的主要优势是:从三阶线圈开始,匀场线圈之间的耦合问题变突出;除此之外,高阶线圈为了产生足够强度的场需要的线圈匝数比低阶线圈更多更稠密。这两个问题采用单层绕线结构都很难克服。为了解决这两个问题,本发明采用多层骨架绕线,通过合理选择绕线骨架位置,并在线圈优化时将线圈耦合做为约束条件进行优化,这种做法能使高阶线圈与低阶线圈之间的互感大幅度降低,并且避免了导线绕线密集造成的绕线困难。

基本信息
专利标题 :
一种高阶匀场线圈设计方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114355263A
申请号 :
CN202011047105.4
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2020-09-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
平学伟王明妤陈嘉琪沈洁李昌利
申请人 :
河海大学
申请人地址 :
江苏省南京市鼓楼区西康路1号
代理机构 :
南京苏高专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
孟红梅
优先权 :
CN202011047105.4
主分类号 :
G01R33/385
IPC分类号 :
G01R33/385  G01R33/36  H01F41/06  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01R
测量电变量;测量磁变量
G01R33/00
测量磁变量的装置或仪器
G01R33/20
涉及磁共振
G01R33/28
G01R33/44到G01R33/64各组中仪器的零部件
G01R33/38
主磁场或梯度磁场的产生、均匀或稳定系统
G01R33/385
使用梯度磁场线圈
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01R 33/385
申请日 : 20200929
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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