一种光束透过率调节装置和光学照明系统
实质审查的生效
摘要
本发明实施例公开了一种光束透过率调节装置和光学照明系统。该光束透过率调节装置包括驱动单元和至少一组透过率调节单元;透过率调节单元包括栅格板和旋转轴,栅格板包括由多个栅条分隔形成的均匀分布的多个栅格;旋转轴与栅格板平行且与栅格板的一侧固定连接,栅格板设置在光束的传播路径上,旋转轴设置在光束的一侧且与光束的传播方向垂直;驱动单元驱动旋转轴旋转,并带动栅格板与光束的传播方向的夹角发生变化,以使栅格板沿光束传播方向上的透光面积发生变化,以此实现不同光束透过率的调节。本发明实施例采用机械方式可实现透过率全档位连续调节,能够对光学照明系统中光源的功率进行精准调节,避免多光源系统光源功率差异影响照明系统。
基本信息
专利标题 :
一种光束透过率调节装置和光学照明系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114326315A
申请号 :
CN202011062625.2
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2020-09-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吴飞张洪博
申请人 :
上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号
代理机构 :
北京品源专利代理有限公司
代理人 :
孟金喆
优先权 :
CN202011062625.2
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20 G02B26/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200930
申请日 : 20200930
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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