基于微纳结构的相位控制型光线偏折器件
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摘要
本发明公开了一种基于微纳结构的相位控制型光线偏折器件，自上而下依次包括图案层、中间支撑层和基底层；图案层为中心开正方形贯穿孔的方柱，正方形孔的每个方柱构成一个小单元，在一维方向上并排8个小单元构成一个光线偏折基本单元；相邻小单元中心处之间的距离相等，小单元周期P为0.11‑0.14μm；所有方柱的高一致，h1为0.15‑0.25μm；方柱的长与宽相同，L1为0.055‑0.12μm；方孔的长与宽相同，L2为0.014‑0.08μm；相邻小单元的尺寸不同且透射相位差为45°，第一个与最后一个小单元的透射相位差为2π，阵列排布后形成光线偏折器件。其能够满足0‑2π的相位梯度变化，使透过的光线发生偏折，具有较高的透过率；同时，偏折器件体积小重量轻，易于集成。
基本信息
专利标题 ：
基于微纳结构的相位控制型光线偏折器件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112213800A
申请号 ：
CN202011214171.6
公开（公告）日 ：
2021-01-12
申请日 ：
2020-11-04
授权号 ：
CN112213800B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
申国庆卢业能包训旺李亚茹陈召全沈健
申请人 ：
中航华东光电有限公司
申请人地址 ：
安徽省芜湖市华夏科技园
代理机构 ：
北京润平知识产权代理有限公司
代理人 ：
董杰
优先权 ：
CN202011214171.6
主分类号 ：
G02B1/00
IPC分类号 ：
G02B1/00 G02B5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2021-01-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/00
申请日 : 20201104
申请日 : 20201104
2021-01-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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