一种复合结构电磁屏蔽膜及其制作方法
公开
摘要
本发明公开了一种复合结构电磁屏蔽膜的制作方法，该方法包括：提供一自支撑金属网栅；提供银纳米线；利用迈耶棒将所述银纳米线刮涂在所述自支撑金属网栅的两面，形成复合网栅；在空气中平放晾干后，将所述复合网栅放入烘箱中高温烘烤，得到复合结构电磁屏蔽膜。本发明还公开了一种复合结构电磁屏蔽膜，包括自支撑金属网栅、设置在所述自支撑金属网栅两侧表面的银纳米线。通过上述方法，有效地增强了复合结构电磁屏蔽膜柔性、适应范围，提升了复合结构电磁屏蔽膜的屏蔽效果。
基本信息
专利标题 ：
一种复合结构电磁屏蔽膜及其制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114466578A
申请号 ：
CN202011245589.3
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2020-11-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
蒋周颖刘艳花陈林森
申请人 ：
苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区新昌路68号
代理机构 ：
上海波拓知识产权代理有限公司
代理人 ：
周志中
优先权 ：
CN202011245589.3
主分类号 ：
H05K9/00
IPC分类号 ：
H05K9/00
法律状态
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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