显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置
授权
摘要
本申请提供一种显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域。其中，显示基板及其制备方法包括在衬底基板上形成图案化膜层，所述图案化膜层的第一表面具有凹坑部和非凹坑部；在所述图案化膜层的第一表面上形成平坦化层；其中，所述凹坑部的亲液性高于所述非凹坑部的亲液性，所述第一表面为所述图案化膜层背离所述衬底基板的表面。本申请技术方案能够解决现有技术中形成的平坦化层表面凹凸不平的技术问题。
基本信息
专利标题 ：
显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112382647A
申请号 ：
CN202011247035.7
公开（公告）日 ：
2021-02-19
申请日 ：
2020-11-10
授权号 ：
CN112382647B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
任文明朱飞飞贾文斌
申请人 ：
合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市新站区工业园内
代理机构 ：
北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张小勇
优先权 ：
CN202011247035.7
主分类号 ：
H01L27/32
IPC分类号 ：
H01L27/32 G02F1/1333
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2021-03-09 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/32
申请日 : 20201110
申请日 : 20201110
2021-02-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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