带质量平衡补偿的可变光阑及光刻机
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种带质量平衡补偿的可变光阑及光刻机。可变光阑包括：基座；X向组件，设于基座上，X向组件包括两个X向刀片；Y向组件，设于基座上且与X向组件垂直，Y向组件包括两个Y向刀片，两个Y向刀片与两个X向刀片共同围成用于曝光的狭缝窗口；补偿组件，设于基座上与Y向组件相同的一侧，且与Y向组件平行设置，补偿组件用于向基座输出与Y向组件输出至基座的推力相反的反推力，以对Y向组件进行质量平衡补偿。该发明提供一种能对Y向组件进行质量平衡补偿且结构紧凑、质量平衡补偿效果较好的可变光阑及光刻机。
基本信息
专利标题 ：
带质量平衡补偿的可变光阑及光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114488699A
申请号 ：
CN202011261189.1
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-11-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄磊
申请人 ：
上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN202011261189.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B26/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20201112
申请日 : 20201112
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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