光固化组合物、光学膜及其制备方法和光学产品
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种光固化组合物、光学膜及其制备方法和光学产品。该光固化组合物包括单体、阳离子光引发剂、感光性树脂以及抗氧化剂，单体为氧杂环丁烷类单体化合物，氧杂环丁烷类单体化合物的结构式为其中，R1选自C1～C5的取代或非取代的烷基中的任意一种，R2选自C1～C40的取代或非取代的直链烷基、C3～C40的取代或非取代的支链烷基中的任意一种，且直链烷基、支链烷基中的至少一个碳或氢被C6～C30的取代或非取代的芳基、C3～C10的取代或非取代的杂芳基中的其中之一所取代。将包含氧杂环丁烷类化合物的光固化组合物应用于光学膜的制作中，具有易脱模、良产率较高等优势。
基本信息
专利标题 ：
光固化组合物、光学膜及其制备方法和光学产品
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114509914A
申请号 ：
CN202011280793.9
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2020-11-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
钱晓春张学龙于培培张宴成
申请人 ：
常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市天宁区郑陆镇武澄工业园
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
梁文惠
优先权 ：
CN202011280793.9
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G02B3/08 G02B5/04 G02B5/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20201116
申请日 : 20201116
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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