极低温低热耗散精密压电陶瓷旋转台
授权
摘要
一种低热耗散压电陶瓷旋转台,包括机械放大结构、驱动装置、角度传感系统和总控系统,其中:机械放大结构,包括两组互相垂直放置的全同子结构,相对的两个子结构组成一组,两组子结构通过静摩擦力交替搓动转轴,避免滑动摩擦,从而降低旋转产生的热耗散;角度传感系统,包括由探测电极、输入电极、接地电极和输出电极构成的电容阻抗传感器,所述角度传感系统用于无热耗散高精度测量旋转角度,传递信号给控制系统以实现闭环控制;总控制系统,包括用于测量电容传感器信号的测量系统、用于控制压电陶瓷堆电激励的压电陶瓷控制系统和作为总控制系统的输入和输出的计算机。
基本信息
专利标题 :
极低温低热耗散精密压电陶瓷旋转台
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112436754A
申请号 :
CN202011282234.1
公开(公告)日 :
2021-03-02
申请日 :
2020-11-16
授权号 :
CN112436754B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
程光磊王浩远蔡方煦黄成园杜江峰
申请人 :
中国科学技术大学
申请人地址 :
安徽省合肥市包河区金寨路96号
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
孙蕾
优先权 :
CN202011282234.1
主分类号 :
H02N2/00
IPC分类号 :
H02N2/00 H02N2/02 H02N2/04 H02N2/06
法律状态
2022-05-17 :
授权
2021-03-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H02N 2/00
申请日 : 20201116
申请日 : 20201116
2021-03-02 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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