基于高斯过程回归的试验样本点选取方法
公开
摘要
本发明提供了一种基于高斯过程回归的试验样本点选取方法，包括：在仿真数据进行性态分析的过程中，确定高斯过程回归模型的核函数；确定误差响应函数；获取实际工程问题中性能测试的历史数据，生成训练数据集；导入训练数据集，运用高斯过程回归模型，确定核函数的初始化超参数；进行初始化试验构建；运用高斯过程回归模型进行采样的迭代优化，选取最优采样点集合；迭代优化结束后，输出选取的最优采样点集合。本发明解决了现有技术中试验样本点选取效率低的问题。
基本信息
专利标题 ：
基于高斯过程回归的试验样本点选取方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114510812A
申请号 ：
CN202011290863.9
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2020-11-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘若鹏赵治亚周鑫何洋
申请人 ：
深圳光启尖端技术有限责任公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区高新区中区高新中一道9号软件大厦四楼
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
谭玲玲
优先权 ：
CN202011290863.9
主分类号 ：
G06F30/20
IPC分类号 ：
G06F30/20 G06F17/18 G06F17/15 G06F111/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/20
设计优化、验证或模拟
法律状态
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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