本发明公开了一种半导体设备的真空抽气阀门及真空控制系统，其中，真空抽气阀门包括驱动装置、底座、转盘和一组叶片，所述叶片安装在底座和转盘之间，所述驱动装置带动转盘旋转，旋转的转盘带动各叶片在底座上同步移动，且同步移动的各叶片共同形成一抽气口，所述抽气口的形状为正多边形且以转盘的圆心为中心，所述叶片的片数与所述抽气口的边数相同，通过各叶片的同步移动调节所述抽气口的开度。本发明利用旋转的转盘控制叶片的移动以调节阀门的抽气口大小，从而控制气流的有效通过面积和反应腔体的真空压力，同时能够有效地解决因抽气方向偏心导致的等离子体分布不对称的问题，实现气流以轴对称方向的方式流通，提高反应腔体片内性能均匀性。