一种托卡马克核聚变装置中硼膜的去除方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及可控核聚变技术领域，具体公开了一种托卡马克核聚变装置中硼膜的去除方法。所述去除方法包括：在托卡马克装置的腔室内，利用含氟气体化合物在辉光放电条件下产生氟等离子体，进而利用氟离子与硼膜中的硼元素发生反应，对硼膜进行化学去除；以及在硼膜去除结束后，利用氢和氦的联合辉光清洗去除真空腔室内壁的氟离子残留。本发明所提供的方法可有效去除托卡马克核聚变装置中的硼膜，反应产物均可以气态形式排出腔室内部，无沉积残留，且不会对不锈钢内壁的基底材料造成损伤。
基本信息
专利标题 ：
一种托卡马克核聚变装置中硼膜的去除方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114551201A
申请号 ：
CN202011330862.2
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-11-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田小让赵鑫吴超张国松孟垂舟
申请人 ：
新奥科技发展有限公司
申请人地址 ：
河北省廊坊市开发区广阳道北
代理机构 ：
北京开阳星知识产权代理有限公司
代理人 ：
王璐
优先权 ：
CN202011330862.2
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 G21B1/25
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20201124
申请日 : 20201124
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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