一种结构光场调控方法及系统
授权
摘要
本申请适用于结构光场调控技术领域，提供一种结构光场调控方法及系统，通过生成与目标光场对应的第一灰度全息图；对所述第一灰度全息图进行二值化处理，得到第三灰度全息图；对所述第三灰度全息图进行误差补偿，得到第四灰度全息图；加载所述第四灰度全息图至数字微镜器件，根据所述第四灰度全息图像控制所述数字微镜器件中各微镜的开关状态，以调制入射至所述数字微镜器件的参考光束的光强度，得到与所述目标光场对应的目标光束，可以有效提高光场的精度、分辨率及光场调控的性能。
基本信息
专利标题 ：
一种结构光场调控方法及系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112415879A
申请号 ：
CN202011335654.1
公开（公告）日 ：
2021-02-26
申请日 ：
2020-11-25
授权号 ：
CN112415879B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
方兆翔陈露师少光张雅琴张丁军黄源浩肖振中
申请人 ：
奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦12楼
代理机构 ：
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
唐佳芝
优先权 ：
CN202011335654.1
主分类号 ：
G03H1/04
IPC分类号 ：
G03H1/04 G03H1/12
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03H
全息摄影的工艺过程或设备
G03H1/00
应用光波、红外波或紫外波取得全息图或由此获得图像的全息摄影工艺过程或设备；及其特殊的零部件
G03H1/04
产生全息图的工艺过程或设备
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2021-03-16 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03H 1/04
申请日 : 20201125
申请日 : 20201125
2021-02-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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