一种右佐匹克隆工艺杂质及其合成方法
公开
摘要
本发明涉及一种右佐匹克隆工艺杂质及其合成方法，所述右佐匹克隆工艺杂质结构见式Ⅰ。其合成方法包括以下步骤：1)将吡嗪‑3,4‑二甲酸酐和2‑氨基‑3‑氯吡啶加入有机溶剂中反应得到中间体A；2)将中间体A和乙酸酐反应得到中间体B；3)中间体B加入还原剂，经过萃取、洗涤、干燥，浓缩纯化得到中间体C；4)中间体C和4‑甲基哌嗪‑1‑甲酰氯盐酸盐反应，再经过萃取，洗涤，干燥，浓缩纯化，得到类白色固体右佐匹克隆杂质。
基本信息
专利标题 ：
一种右佐匹克隆工艺杂质及其合成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114605415A
申请号 ：
CN202011420739.X
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2020-12-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
马振华孔凯丽徐学宇丁爱忠王春来
申请人 ：
江苏天士力帝益药业有限公司
申请人地址 ：
江苏省淮安市清浦工业园朝阳西路168号
代理机构 ：
北京华科联合专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
王为
优先权 ：
CN202011420739.X
主分类号 ：
C07D487/04
IPC分类号 ：
C07D487/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D487/00
在稠环系中含有氮原子作为仅有的杂环原子的杂环化合物，不包含在C07D451/00至C07D477/00组中
C07D487/02
在稠合系中含有两个杂环
C07D487/04
邻位稠合系
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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