一种氟氧头孢工艺杂质及其制备方法
公开
摘要
本发明公开了一种氟氧头孢工艺杂质及其制备方法，所述方法包括以氟氧头孢钠合成中间体(6R,7R)‑3‑(氯甲基)‑7‑氨基‑7‑甲氧基‑8‑氧代‑5‑氧杂‑1‑氮杂双环[4.2.0]辛‑2‑烯‑2‑羧酸二苯甲基酯和甲硫基乙酸和甲硫基乙酸为起始物料合成目标杂质中间体，再与侧链1‑羟乙基‑5‑巯基‑1H‑四氮唑钠盐缩合，最后四氯化钛脱二苯甲基保护基得到(6R,7R)‑7‑(2‑甲基硫基)乙酰氨基)‑3‑(((1‑(2‑羟乙基)‑1H‑四唑‑5‑基)硫)甲基)‑7‑甲氧基‑8‑氧代‑5‑氧杂‑1‑氮杂双环[4.2.0]辛‑2‑烯‑2‑甲酸；本发明为氟氧头孢钠原料药和制剂的质量研究提供了便利，为氟氧头孢钠的生产和安全用药提供了检测方法和判定依据。
基本信息
专利标题 ：
一种氟氧头孢工艺杂质及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114315865A
申请号 ：
CN202011049054.9
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杜宝权甘兴杰王辉
申请人 ：
北京济美堂医药研究有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区北清路103号中科产业园2号楼3门1-2层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202011049054.9
主分类号 ：
C07D505/20
IPC分类号 ：
C07D505/20 C07D505/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D505/00
含5-氧杂-1-氮杂双环辛烷环系的杂环化合物，即含下式环系的化合物：，例如氧代头孢菌素；这类环系进一步稠合，例如与含氧，含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D505/10
有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子，例如酯基或氰基，直接连在位置2
C07D505/12
在位置7取代
C07D505/14
有杂原子直接连在位置7
C07D505/16
氮原子
C07D505/18
被从羧酸衍生的基团或被其氮或硫同系物进一步酰化
C07D505/20
有被杂原子或被3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子进一步取代的酰化基
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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