本发明提供了一种半导体工艺的废气处理系统及其废气的处理方法，包括：第一传感器、第一三通阀、燃烧室、水洗支路和水洗室；第一三通阀的第一出口通过燃烧室与水洗室连通，第一三通阀的第二出口通过水洗支路与水洗室连通。本发明提供的半导体工艺的废气处理系统，通过在废气处理系统中增设水洗支路和第一三通阀，使第一三通的切换与第一传感器检测的信号进行联动，在第一传感器检测六氟化钨达到预设浓度时，第一三通阀将废气切换至水洗支路进行水解处理，并在第一传感器检测六氟化钨未达到预设浓度时，第一三通阀将废气切换至燃烧室进行处理，避免废气对燃烧室的腐蚀，提高处理效率与工艺机台利用率，延长设备的维护周期，减少对产线运行的影响。