一种半导体工艺的废气处理系统及其废气的处理方法
授权
摘要
本发明提供了一种半导体工艺的废气处理系统及其废气的处理方法,包括:第一传感器、第一三通阀、燃烧室、水洗支路和水洗室;第一三通阀的第一出口通过燃烧室与水洗室连通,第一三通阀的第二出口通过水洗支路与水洗室连通。本发明提供的半导体工艺的废气处理系统,通过在废气处理系统中增设水洗支路和第一三通阀,使第一三通的切换与第一传感器检测的信号进行联动,在第一传感器检测六氟化钨达到预设浓度时,第一三通阀将废气切换至水洗支路进行水解处理,并在第一传感器检测六氟化钨未达到预设浓度时,第一三通阀将废气切换至燃烧室进行处理,避免废气对燃烧室的腐蚀,提高处理效率与工艺机台利用率,延长设备的维护周期,减少对产线运行的影响。
基本信息
专利标题 :
一种半导体工艺的废气处理系统及其废气的处理方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112827341A
申请号 :
CN202011566842.5
公开(公告)日 :
2021-05-25
申请日 :
2020-12-25
授权号 :
CN112827341B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
杨春水
申请人 :
北京京仪自动化装备技术有限公司
申请人地址 :
北京市大兴区经济技术开发区凉水河二街8号院14楼A座3层
代理机构 :
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 :
张琪
优先权 :
CN202011566842.5
主分类号 :
B01D53/78
IPC分类号 :
B01D53/78 B01D53/68 F23G7/06 G01N33/00
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D53/00
气体或蒸气的分离;从气体中回收挥发性溶剂的蒸气;废气例如发动机废气、烟气、烟雾、烟道气或气溶胶的化学或生物净化
B01D53/34
废气的化学或生物净化
B01D53/74
净化废气的一般方法;为这类方法特别设计的设备或装置
B01D53/77
液相方法
B01D53/78
利用气—液接触
法律状态
2022-05-17 :
授权
2021-07-16 :
著录事项变更
IPC(主分类) : B01D 53/78
变更事项 : 申请人
变更前 : 北京京仪自动化装备技术有限公司
变更后 : 北京京仪自动化装备技术股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100176 北京市大兴区经济技术开发区凉水河二街8号院14楼A座3层
变更后 : 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区凉水河二街8号院14楼A座
变更事项 : 申请人
变更前 : 北京京仪自动化装备技术有限公司
变更后 : 北京京仪自动化装备技术股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100176 北京市大兴区经济技术开发区凉水河二街8号院14楼A座3层
变更后 : 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区凉水河二街8号院14楼A座
2021-06-18 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B01D 53/78
申请日 : 20201225
申请日 : 20201225
2021-05-25 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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