本实用新型公开了用于半导体废气的处理装置，涉及工业废气处理技术领域，该用于半导体废气的处理装置，包括：供半导体废气燃烧的内管，且内管管腔为反应腔室；套设在反应腔室外周，并与反应腔室围成通道一以流通气体的套筒；套设在套筒外周，与套筒通过通道二相通的隔绝套管；设于所述套筒和隔绝套管之间的隔热层；套设在隔绝套管外周，并与隔绝套管围成通道三以流通气体的放气套管；以及，套设在放气套管外周，并与放气套管围成储气腔室以储装气体的密封套管。本实用新型通过在反应腔室和储气腔室之间增设套筒、隔热层、隔绝套管和放气套管以缓存反应腔室排放的气体，解决了工作过程中能耗高，热利用率低的问题。