一种应用于半导体废气处理设备的结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种应用于半导体废气处理设备的结构，涉及半导体行业废气处理技术领域，包括机柜，所述机柜内安装有废气处理系统，所述废气处理系统包括气动三通阀，通过设置等离子体火炬、反应腔、循环水箱和水洗塔，实现废气的处理，通过设置溢流部一和溢流部二，从而降低经反应腔反应后的气体温度，对有污垢的水洗塔塔壁进行水洗，通过在上层水洗塔上设置新风组合件，使得对上层水洗塔进行通风，减少出口水气过多，本实用新型为半导体废气处理提供了一种选择，增加解决半导体废气处理的方案，处理废气安全可靠，范围广效率高。
基本信息
专利标题 ：
一种应用于半导体废气处理设备的结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920702326.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-16
授权号 ：
CN210473530U
授权日 ：
2020-05-08
发明人 ：
章文军杨春水宁腾飞陈彦岗杨春涛王继飞张坤闫萧蔡传涛席涛涛王磊
申请人 ：
安徽京仪自动化装备技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省芜湖市江北产业集中区管委会B楼403-J室
代理机构 ：
芜湖思诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
郑直
优先权 ：
CN201920702326.7
主分类号 ：
B01D53/32
IPC分类号 ：
B01D53/32 B01D53/14 F23G7/06
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D53/00
气体或蒸气的分离；从气体中回收挥发性溶剂的蒸气；废气例如发动机废气、烟气、烟雾、烟道气或气溶胶的化学或生物净化
B01D53/32
用与B01D61/00组的方法不同的电效应
法律状态
2020-05-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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