空间指纹图配准基元特征描述与匹配方法
授权
摘要
本发明提出一种空间指纹图配准基元特征描述与匹配方法，使用配准基元集合内各个元素之间的空间关系构建空间指纹图，从而对配准基元集合整体分布特征进行描述。采用GED(Graph Edit Distance，图编辑距离)度量异源空间指纹图之间的相似性，将局部与全局相似性作为匹配测度，查找最优配准基元空间指纹图匹配关系，实现共轭配准基元对的生成，用于后续模型参数的解算。
基本信息
专利标题 ：
空间指纹图配准基元特征描述与匹配方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112767460A
申请号 ：
CN202011625622.5
公开（公告）日 ：
2021-05-07
申请日 ：
2020-12-31
授权号 ：
CN112767460B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
陈驰
申请人 ：
武汉大学
申请人地址 ：
湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学
代理机构 ：
武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
王琪
优先权 ：
CN202011625622.5
主分类号 ：
G06T7/33
IPC分类号 ：
G06T7/33 G06T7/11
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T7/10
分割；边缘检测
G06T7/30
确定图像校准的变换参数，例如图像配准
G06T7/33
使用基于特征的方法
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2021-05-25 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 7/33
申请日 : 20201231
申请日 : 20201231
2021-05-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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