一种基于射频击穿阈值的电磁结构表面处理装置
授权
摘要
本实用新型主要涉及表面处理技术领域，提供了一种基于射频击穿阈值的电磁结构表面处理装置，包括至下而上依次设置的第一立柜、第二立柜和第三立柜，第一立柜设有超声波清洗机控制器和超声波清洗机，第二立柜设有电化学抛光开关电源、电化学抛光水槽和清水冲洗机，第三立柜设有机械泵和真空烘烤箱；利用超声波清洗机将待清洁电磁结构表面的油污清除，提高待清洁电磁结构表面的清洁度，采用磷酸清洗剂对待清洁电磁结构的表面进行电化学抛光，磷酸清洗剂可与待清洁电磁结构表面的金属离子在待清洁电磁结构表面形成一层磷酸盐膜，将待清洁电磁结构的粗糙表面逐渐整平，提高待清洁电磁结构的光洁度，有利于提高HPM器件电磁结构表面射频场击穿阈值。
基本信息
专利标题 ：
一种基于射频击穿阈值的电磁结构表面处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020006297.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-03
授权号 ：
CN211771649U
授权日 ：
2020-10-27
发明人 ：
孙运超
申请人 ：
湖南大昊科技有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市岳麓区西湖街道枫林一路西湖文化园创意文化街C1-220号
代理机构 ：
北京德崇智捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
高琦
优先权 ：
CN202020006297.3
主分类号 ：
C25F3/16
IPC分类号 ：
C25F3/16 C25F7/00 B08B3/12 B08B3/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/16
抛光
法律状态
2020-10-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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