一种碳材料的镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种碳材料的镀膜设备,涉及碳材料加工的技术领域，包括机架，机架上设置有加工台，加工台上转动设置有转盘，机架上还设置有带动转盘转动的动力结构，转盘的上表面均匀的设置有若干夹持结构；加工台上还设置有镀膜结构，镀膜结构包括设置于加工台上的支撑板，支撑板上设置有若干竖向的升降气缸和一真空箱，升降气缸的输出轴与开口朝下的罩体连接，罩体的内壁设置有隔板，隔板上设置有贯穿隔板的对准头，罩体的顶部内壁设置有磁控靶，磁控靶与对准头连接，真空箱通过连接管与磁控靶连接；镀膜结构与夹持结构设置有相互配套的感应结构，本实用新型具有使用方便、镀膜效率高、效果好等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种碳材料的镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020081959.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-15
授权号 ：
CN211522310U
授权日 ：
2020-09-18
发明人 ：
刘灿郑云武史正军阚欢徐开蒙林旭丁宽施蕊刘云
申请人 ：
西南林业大学
申请人地址 ：
云南省昆明市盘龙区白龙寺300号
代理机构 ：
北京挺立专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘阳
优先权 ：
CN202020081959.3
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-09-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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