射流抛光系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种射流抛光系统，包括多个射流抛光工位，每个射流抛光工位都设有集液槽，各集液槽分别设有排液泵，各排液泵分别外接排液支管，各排液支管分别与排液总管连接，排液总管还与集液池连接；集液池由左至右依次分隔出：磨料粒子回收仓、进液仓和净液仓；排液总管伸入进液仓中。本实用新型射流抛光系统，其能对射流抛光产生的废液进行处理，回收废液中的磨料粒子。

基本信息

专利标题：

射流抛光系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020209117.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-02-26

授权号：

CN211760842U

授权日：

2020-10-27

发明人：

田劲松

申请人：

苏州协同创新智能制造装备有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市吴中区越溪街道北官渡路50号3幢

代理机构：

苏州曼博专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

宋俊华

优先权：

CN202020209117.1

主分类号：

B24C1/08

IPC分类号：

B24C1/08 B24C3/00 B24C7/00 B24C9/00