一种旋转射流抛光装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种旋转射流抛光装置，包括射流喷嘴部件，射流喷嘴部件包括旋转接头、空心的转动主轴、抛光喷嘴和贯穿式电机；转动主轴的两端分别与旋转接头的输出端和抛光喷嘴相连；贯穿式电机包括中空转子和定子，中空转子转动时，通过转动主轴带动抛光喷嘴旋转；抛光加工时，首先，将射流喷嘴部件安装与运动平台或是工业机器人机械臂上，供液系统依次通过供液管路、旋转接头的输入端、输出端和转动主轴的空心内腔，最终将抛光液到达抛光喷嘴，并以一定压力和速度喷射到工件表面。本实用新型可以减小射流抛光产生的高频误差，保证射流冲击工件表面形成的去除函数是回转对称且中心去除量最大的类高斯型去除函数，同时提高射流抛光的效率。

基本信息

专利标题：

一种旋转射流抛光装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021828075.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-08-27

授权号：

CN212527368U

授权日：

2021-02-12

发明人：

曹中臣闫升亲李世鹏

申请人：

天津大学

申请人地址：

天津市津南区海河教育园雅观路135号天津大学北洋园校区

代理机构：

天津市北洋有限责任专利代理事务所

代理人：

李丽萍

优先权：

CN202021828075.6

主分类号：

B24C1/08

IPC分类号：

B24C1/08 B24C9/00