射流抛光装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种射流抛光装置，包括：用于夹持工件的夹具，容纳夹具及其上工件的竖置漏斗状抛光仓，伸入抛光仓且支承夹具的支架，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行射流抛光的射流抛光用喷嘴，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行清洗的清洗用喷嘴，位于抛光仓下方的沉淀仓，以及包围沉淀仓的净液仓。本实用新型射流抛光装置，其能对工件进行抛光和清洗，且能回用抛光和清洗产生的废液。

基本信息

专利标题：

射流抛光装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020200463.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-02-24

授权号：

CN211760840U

授权日：

2020-10-27

发明人：

田劲松

申请人：

苏州协同创新智能制造装备有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市吴中区越溪街道北官渡路50号3幢

代理机构：

苏州曼博专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

宋俊华

优先权：

CN202020200463.3

主分类号：

B24C1/08

IPC分类号：

B24C1/08 B24C9/00 B08B3/02 B08B13/00