一种微沟槽射流抛光装置

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摘要

本实用新型公开一种微沟槽射流抛光装置及抛光方法，所述抛光装置包括基座，供液系统，抛光喷嘴和工作台，所述工作台的上表面可拆卸安装一工件固定组件，用于放置待加工的工件，所述工件固定组件对应设置在所述抛光喷嘴的下方；所述工件固定组件包括置物台和固定元件，所述置物台放置设置在所述工作台的上表面，所述置物台的上表面设置有垂直设置的第一凹槽和第二凹槽，其中所述第一凹槽的竖直深度大于所述第二凹槽；所述抛光喷嘴包括毫米级抛光喷嘴和微米级抛光喷嘴，所述固定元件包括盖板和掩膜；当所述抛光喷嘴为微米级抛光喷嘴时，所述固定元件为盖板；当所述抛光喷嘴为毫米级抛光喷嘴时，所述固定元件为掩膜。

基本信息

专利标题：

一种微沟槽射流抛光装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022251569.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-10-10

授权号：

CN212553389U

授权日：

2021-02-19

发明人：

曹中臣闫升亲李世鹏姜向敏张军鹏

申请人：

天津大学

申请人地址：

天津市津南区海河教育园雅观路135号天津大学北洋园校区

代理机构：

天津市北洋有限责任专利代理事务所

代理人：

曹玉平

优先权：

CN202022251569.9

主分类号：

B24C1/08

IPC分类号：

B24C1/08 B24C9/00 B24C3/04