一种动态光场发生装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种动态光场发生装置，属于空间光技术领域，包括结构载体和安装在所述结构载体上的控制模块、交互接口和光路结构；光路结构包括支撑架以及按照光路传播路径依次分布在支撑架上的偏振片、矩形光斑整形单元、前光学4f系统、动态光束调制单元和后光学4f系统。本实用新型设计合理、易于操作，通过简单的输入电信号变化即可对输出光进行调制。
基本信息
专利标题 ：
一种动态光场发生装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020268013.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-06
授权号 ：
CN211653311U
授权日 ：
2020-10-09
发明人 ：
殷长志
申请人 ：
上海瑞立柯信息技术有限公司
申请人地址 ：
上海市嘉定区南翔镇德力西路88号2幢A区094室
代理机构 ：
北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黄冠华
优先权 ：
CN202020268013.8
主分类号 ：
G02B27/09
IPC分类号 ：
G02B27/09 G02B27/28
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形，例如改变横截面积
法律状态
2020-10-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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