等离子清洗设备用翻转装置
授权
摘要
本实用新型涉及半导体加工设备领域，尤其涉及一种等离子清洗设备用翻转装置，包括翻转机构、载片机构和传送机构，所述翻转机构用于带动载片机构进行翻转，所述载片机构设于翻转机构上，用于承载待清洗产品，所述传送机构用于将载片机构上的待清洗产品送入等离子清洗设备。本实用新型装置结构简单，能够实现对待清洗产品的接料、翻转和送料，操作简便，翻转效率高，并且翻转过程中不会对产品带来污染，清洗效果好。
基本信息
专利标题 ：
等离子清洗设备用翻转装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020368217.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-20
授权号 ：
CN211295059U
授权日 ：
2020-08-18
发明人 ：
朱袁正胡伟朱久桃
申请人 ：
无锡电基集成科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区研发二路以南、研发一路以东
代理机构 ：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
朱晓林
优先权 ：
CN202020368217.9
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/677 H01L21/687 B08B7/00 B08B13/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-08-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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