一种等离子自动清洗设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种等离子自动清洗设备，属于半导体加工技术领域；其设备包括机架、设置在机架上的清洗机构、分设在清洗机构两侧外的送料装置、分设在送料装置与清洗机构之间的储料装置、与机架滑动连接的回料装置以及罩设在外周的罩壳，所述送料装置能够将物料板从储料装置内推送至清洗机构内，所述回料装置能够将清洗后的物料板推送回储料装置内；本实用新型提供了一种等离子自动清洗设备，能够实现送料、清洗、回料的自动化操作，提高清洗效率，降低人工作业量，降低人工成本，提高经济效益。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子自动清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021356821.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-10
授权号 ：
CN212633685U
授权日 ：
2021-03-02
发明人 ：
郭峰刘向东彭小巧王宇国际瑞
申请人 ：
昆山普乐斯电子科技有限公司;苏州优维毕光电科技有限公司;苏州艾斯林自动化科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市玉山镇北门路3232号3号房
代理机构 ：
南京纵横知识产权代理有限公司
代理人 ：
董建林
优先权 ：
CN202021356821.6
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00 B08B13/00 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2021-03-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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