一种高速自动半导体等离子清洗设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种高速自动半导体等离子清洗设备，包括机架和设置于所述机架上的三轴龙门机构、等离子清洗头、输送机构、自动上料机构、自动下料机构、识别机构、废气处理系统，所述输送机构横向设置于所述机架上，所述三轴龙门机构横跨于所述输送机构的上方，所述等离子清洗头设置于所述三轴龙门机构的工作端，所述自动上料机构、自动下料机构、输送机构均至少为两组，两组以上的自动上料机构、自动下料机构、输送机构在所述机架上横向平行设置；本实用新型完成产品的自动上下料，通过输送机构精确传送，使等离子清洗头快速定位到需要清洗的产品位置，提高了设备的清洗效率，能够兼容不同规格的产品，具有良好的市场应用价值。
基本信息
专利标题 ：
一种高速自动半导体等离子清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022006335.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-15
授权号 ：
CN212991034U
授权日 ：
2021-04-16
发明人 ：
高友浪杨恒
申请人 ：
深圳市轴心自控技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区观澜街道大富社区桂月路334号硅谷动力汽车电子创业园A15栋101、201及A14栋整栋
代理机构 ：
深圳众邦专利代理有限公司
代理人 ：
罗郁明
优先权 ：
CN202022006335.8
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 B08B7/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2021-04-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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