接触式等离子清洗设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种接触式等离子清洗设备，包括电极、介质板和壳体组件，所述介质板的材质为陶瓷，所述介质板上设有容纳槽，所述电极设置于所述容纳槽内；所述壳体组件的底部设有与所述介质板相适配的开口，所述壳体组件的顶部设有气体混合腔，所述气体混合腔与所述开口连通。其结构简单，处理效果好且使用寿命长。
基本信息
专利标题 ：
接触式等离子清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020488763.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-07
授权号 ：
CN212442383U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
罗弦
申请人 ：
深圳市诚峰智造有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区沙井街道洪田孖宝工业区15栋3楼
代理机构 ：
深圳市博锐专利事务所
代理人 ：
王芳
优先权 ：
CN202020488763.6
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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