一种新型等离子清洗设备
授权
摘要

本实用新型涉及等离子清洗设备的技术领域,特别是涉及一种新型等离子清洗设备,包括工作台,工作台上安装有两块立板,两块立板之间传动连接有齿带,齿带上啮合连接有载物板;工作台上安装有两块竖板,两块立板设置在两块竖板之间,两块竖板之间安装有第一滑轨,第一滑轨上滑动设置有滑块,滑块上可升降的设置有等离子清洗机构。本实用新型通过将载物板滑动的设置在齿带上,通过控制齿带的活动,可带动载物板移动,进而便于工作人员将产品的放置以及取出;通过在竖板之间设有第一滑轨,进而可便于等离子清洗机构的横向移动,通过将等离子清洗机构可升降的设置在滑块上,便于等离子清洗机构的竖向移动,进而可有效的对产品进行等离子清洗。

基本信息
专利标题 :
一种新型等离子清洗设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122924959.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-26
授权号 :
CN216225908U
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
陈峰
申请人 :
深圳市鸿达辉科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市光明区马田街道合水口社区下朗工业区第四十栋601C区
代理机构 :
重庆百润洪知识产权代理有限公司
代理人 :
刘立春
优先权 :
CN202122924959.2
主分类号 :
B08B7/00
IPC分类号 :
B08B7/00  B08B13/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2022-04-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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