一种等离子清洗设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种等离子清洗设备，包括送料机构和等离子清洗机构，送料机构设有沿上下料方向依次布置的上料工位、清洗工位以及下料工位并将上料工位上的产品依次运输至清洗工位和下料工位，等离子清洗机构对清洗工位上的产品进行等离子清洗，送料机构还设有布置于上料工位与清洗工位之间的高度检测工位，高度检测工位包括一用于对高度检测工位上产品进行高度检测的高度检测装置，等离子清洗机构包括设置于一移栽机构上的多个等离子喷枪，移栽机构根据高度检测装置检测的信号带动等离子喷枪靠近或远离清洗工位，本申请实现多工位同时作业，节约工时，提高工作效率，能够适应不同高度的产品清洗工作。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021182747.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-23
授权号 ：
CN213378281U
授权日 ：
2021-06-08
发明人 ：
叶茂权
申请人 ：
苏州工业园区多司电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区唯亭利达路4号
代理机构 ：
北京天盾知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙倩倩
优先权 ：
CN202021182747.0
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2021-06-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
