一种用于超纯水制造的抛光系统

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摘要

本实用新型提供了一种用于超纯水制造的抛光系统，其可同时高效降低超纯水中的溶解氮和溶解氧浓度。其包括超纯水箱，所述超纯水箱与预处理系统和制成系统连接，所述超纯水箱通过超纯水泵顺次连接有换热器、TOC‑UV装置、增压泵、离子交换装置、脱气膜系统、终端超滤装置、超纯水使用点；所述脱气膜系统包括顺次连接的第一脱气膜装置和第二脱气膜装置，所述第一脱气膜装置采用氮气吹扫加抽真空的运行模式，所述第二脱气膜装置采用抽真空的运行模式。

基本信息

专利标题：

一种用于超纯水制造的抛光系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020404008.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-03-26

授权号：

CN212269739U

授权日：

2021-01-01

发明人：

熊江磊戎宇舟周运财马兴峰章星异

申请人：

中国电子系统工程第二建设有限公司

申请人地址：

江苏省无锡市新吴区具区路88号

代理机构：

无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙)

代理人：

张宁

优先权：

CN202020404008.5

主分类号：

C02F9/08

IPC分类号：

C02F9/08 C02F103/04