一种消畸变的点阵投射装置
授权
摘要
本申请公开一种消畸变的点阵投射装置，包括阵列光源、逆扫描透镜和衍射光学元件，所述阵列光源发出的第一光束经逆扫描透镜出射为第二光束，所述第二光束经衍射光学元件复制为出射的第三光束；所述第二光束102的视场角α和第三光束103的视场角γ存在约束关系：α>0.8γ。本申请可以消除投射器所投射的点阵图案畸变，以便更好的应用在D‑TOF3D成像装置中。
基本信息
专利标题 ：
一种消畸变的点阵投射装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020443913.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-31
授权号 ：
CN211905878U
授权日 ：
2020-11-10
发明人 ：
陈驰李安鲁亚东黄若普
申请人 ：
深圳市安思疆科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区西丽街道清华信息港科研楼107-A12
代理机构 ：
杭州天勤知识产权代理有限公司
代理人 ：
米志鹏
优先权 ：
CN202020443913.1
主分类号 ：
G02B27/42
IPC分类号 ：
G02B27/42 G03B15/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/42
衍射光学
法律状态
2020-11-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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