用于大面积显微光致荧光扫描与测绘测量的系统
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摘要
一种用于大面积显微光致荧光扫描与测绘测量的系统,包含一提供激光束的激光光源、一供放置待测工件且能够进行位移的测量载台、一具有X‑Y光学扫描镜头的振镜扫描模块、一视觉模块、一光谱仪以及一控制单元;当激光束投射至待测工件上将产生一光致荧光的响应光束,且视觉模块与光谱仪所连接的分光镜组,皆设于该激光束与响应光束的传递途径上;以此,经由该视觉模块以检视并调整相关构件的设定状态,继而该控制单元将驱使该X‑Y光学扫描镜头与该测量载台协同位移,使该激光束对应地投射在所欲扫描的位置上,再由该光谱仪记录其响应光束的光谱信号;本系统将择点反复进行激光束的投射与其光谱信号的记录,进而完成大面积择点扫描的测量作业。
基本信息
专利标题 :
用于大面积显微光致荧光扫描与测绘测量的系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020493761.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-07
授权号 :
CN212321440U
授权日 :
2021-01-08
发明人 :
蔡明聪洪瑜亨
申请人 :
旭臻科技有限公司
申请人地址 :
中国台湾桃园市
代理机构 :
北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司
代理人 :
侯奇慧
优先权 :
CN202020493761.6
主分类号 :
G01N21/64
IPC分类号 :
G01N21/64 G02B26/10
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发,因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光;磷光
法律状态
2021-01-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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