一种足底按摩器的高度调节机构

授权

摘要

本实用新型提供一种足底按摩器的高度调节机构，包括置于按摩器下方的底座，底座的外侧至少设置有两个凹槽，凹槽的内壁上对称设置有限位块；凹槽内可拆卸地安装有调节块，调节块的侧壁上开设有限位槽，限位槽与限位块配合对应；限位槽包括：第一限位槽和第二限位槽，第一限位槽与第二限位槽的高度不同；按摩器包括：第一高度档位第二高度档位，限位块与第一限位槽对应配合时，按摩器置于第一高度档位，限位块与第二限位槽对应配合时，按摩器置于第二高度档位。本实用新型一种足底按摩器的高度调节机构能够自主进行不同高度调节，按摩器稳定性好，整体结构简单，能够满足用户对足底不同部位的按摩需求。

基本信息

专利标题：

一种足底按摩器的高度调节机构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020717800.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-05-06

授权号：

CN213191053U

授权日：

2021-05-14

发明人：

R·丹吉洛

申请人：

德欣意（宁波）工业设计有限公司

申请人地址：

浙江省宁波市海曙区石碶街道东杨村

代理机构：

宁波慈恒专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

刘世勇

优先权：

CN202020717800.6

主分类号：

A61H23/02

IPC分类号：

A61H23/02