基准尺高度调节机构
授权
摘要
本实用新型提供一种基准尺高度调节机构,包括上表面用于放置待测量物体的平台,所述平台上或者平台附近设置表面带有刻度的基准尺,基准尺设置在升降机构上使基准尺上刻度所在的表面和平台上表面之间的距离可以调节。升降机构包括下端的固定端与上方的升降端;升降端设置可以与待测量物体上表面接触的横担臂;升降端移动时,升降机构上始终有至少一个基准点到平台上表面的距离是升降端到平台上表面距离的一半,所述基准点处设置基准尺,基准尺的刻度所在面与平台上表面平行。本实用新型横担臂下降到与待测量物体的上表面接触时,基准尺始终在待测量物体一半厚度所在高度附近,可有效地提高测量精度。
基本信息
专利标题 :
基准尺高度调节机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022184460.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-29
授权号 :
CN212963207U
授权日 :
2021-04-13
发明人 :
周晓林马超王兆平杨慧穆林张开松张芹杨兴丽屈长义吕军张剑波李治勋冯建新
申请人 :
河南省水产科学研究院
申请人地址 :
河南省郑州市惠济区江山路48号
代理机构 :
郑州中原专利事务所有限公司
代理人 :
霍彦伟
优先权 :
CN202022184460.8
主分类号 :
G01B11/02
IPC分类号 :
G01B11/02 G01B11/06 G01B11/24
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
法律状态
2021-04-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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