一种高纯气体分析系统
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摘要

本实用新型公开了一种高纯气体分析系统,由与阀门组连接的介质管路、待测气源管路和分析管路组成,介质管路由介质存储器、减压装置A和介质纯化装置按顺序由管道连接,待测气源管路由高纯气源和减压装置B按顺序由管道连接,分析管路为短管道将分析仪器与阀门组连接;介质纯化装置和减压装置B由阀门Ⅰ通过管道连接,减压装置B通过阀门Ⅱ连接有去介质装置。本实用新型通过阀门组的调节,使不同管路先后独自工作,可有效清除体系中的杂质,且使进样系统压力高于外界压力,解决了外部空气渗入污染问题,排除管道中样品残留及空气组分对分析结果的干扰,使分析系统持续具备良好的测试本底。

基本信息
专利标题 :
一种高纯气体分析系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020754703.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-09
授权号 :
CN212568673U
授权日 :
2021-02-19
发明人 :
韩雪张说吕坤徐立林
申请人 :
烟台万华电子材料有限公司
申请人地址 :
山东省烟台市经济技术开发区珠江路32号留学生创业园2号楼416室
代理机构 :
烟台上禾知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
高峰
优先权 :
CN202020754703.4
主分类号 :
G01N33/00
IPC分类号 :
G01N33/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N33/00
利用不包括在G01N1/00至G01N31/00组中的特殊方法来研究或分析材料
法律状态
2021-02-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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