一种原位底部阻隔结构、半阻隔、阻隔及排液系统
授权
摘要
本实用新型涉及防渗工程技术领域，特别是一种原位底部阻隔结构、半阻隔、阻隔及排液系统，原位底部阻隔结构包括底部防渗结构，底部防渗结构包括至少一层防渗层，防渗层位于既有待处理物下方，防渗层包括施工通道，防渗层被配置为：所述防渗层为通过向施工通道内灌注的或高压旋喷的防渗浆液，与周边的土层和/或岩体所固化成型为一体的层状结构体。本申请的一种原位底部阻隔结构，在不挠动待处理物的前提下，设置防渗层，能有效隔绝防渗层内外物质的交换，特别是液相物质的交换，底部防渗结构起到阻止外界水进入既有待处理物内部，以及阻止既有待处理物内的液相物质向底部防渗结构外扩散的目的。
基本信息
专利标题 ：
一种原位底部阻隔结构、半阻隔、阻隔及排液系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020822245.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-15
授权号 ：
CN212248389U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
谷亮
申请人 ：
谷亮
申请人地址 ：
四川省成都市温江区柳城南熏大道四段188号4栋1单元4楼8号
代理机构 ：
四川力久律师事务所
代理人 ：
王波
优先权 ：
CN202020822245.3
主分类号 ：
E02D31/00
IPC分类号 ：
E02D31/00
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D31/00
基础或基础结构的保护装置；保护土壤或下层土中水的地基措施，例如，防止或消除油的污染
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
