一种干涉显微镜
授权
摘要
本实用新型提供一种干涉显微镜，包括光源发生装置、补偿干涉腔，探测臂、信号采集与处理单元；所述补偿干涉腔接收所述光源发生装置产生的光束并进行反射后成为反射光束进入所述探测臂；所述探测臂对所述反射光束进行聚焦形成样品光，并将所述样品光发送给所述信号采集与处理单元；其中，所述探测臂设有第二显微物镜，所述第二显微物镜用于将光聚焦于样品上并将所述样品的结构信息调制成光线返回。该干涉显微镜，通过在补偿干涉腔中插入第一显微物镜，使参考光与样品光均经过完全相同的显微物镜只是顺序不一样，保证样品光和参考光的光程完全相等，避免了因经过光学器件的不一致导致的干涉面上有些点不等光程。
基本信息
专利标题 ：
一种干涉显微镜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020852163.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-20
授权号 ：
CN212514264U
授权日 ：
2021-02-09
发明人 ：
杜凯李俊王金玉尹韶云熊亮邹钱生王浩
申请人 ：
中国科学院重庆绿色智能技术研究院
申请人地址 ：
重庆市北碚区方正大道266号
代理机构 ：
北京元本知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王美兰
优先权 ：
CN202020852163.3
主分类号 ：
G01N21/45
IPC分类号 ：
G01N21/45 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/41
折射率；影响相位的性质，例如光程长度
G01N21/45
利用干涉量度法，利用纹影方法
法律状态
2021-02-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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