一种干涉-散射增强模式下的暗场显微镜
授权
摘要
本实用新型公开一种干涉‑散射增强模式下的暗场显微镜，包括用于发出光线的光源、由若干个反射镜组成的反射光路以及设置于待测样品上方的检测装置，光源发出平行光束经过待测样品后进入反射光路内，并经反射光路再次以平行光束经过待测样品，待测样品发生散射而被检测装置所检测。相对现有技术，本实用新型技术方案具有结构简易、方便操作且检测灵敏、可靠性高等优点，相对现有的暗场显微镜，本实用新型具有显著提高显微镜分辨率和应用范围、满足纳米尺度的观测和成像要求，搭建成本低廉，具有能在普通实验室普及和应用等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种干涉-散射增强模式下的暗场显微镜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921860705.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-31
授权号 ：
CN210894137U
授权日 ：
2020-06-30
发明人 ：
方一民黄宗雄陈珊孙俊杰
申请人 ：
南京医科大学
申请人地址 ：
江苏省南京市江宁区天元东路818号
代理机构 ：
深圳尚业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王利彬
优先权 ：
CN201921860705.5
主分类号 ：
G01N21/84
IPC分类号 ：
G01N21/84 G01N21/45 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
法律状态
2020-06-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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